Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением

  • Автор:
  • Специальность ВАК РФ: 05.27.06
  • Год защиты: 2019
  • Место защиты: Санкт-Петербург
  • Стоимость: 250 руб.
Титульный лист Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением
Оглавление Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением
Содержание Разработка технологии формирования фоторезистивных пленок прецизионной толщины с минимальной шероховатостью поверхности плазмохимическим травлением
.

Рекомендуемые диссертации данного раздела